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寰球化学机械研磨液市场与厂商动态剖析

2020-05-09 14:14:59

    2005年寰球化学机械研磨液市场规模达5.67亿美元,较2004年仅生长3.4%,与2004年之生长率24.3%相较趋缓许多,剖析生长趋缓要素有二:一是半导体市场生长趋缓,2005年寰球半导体市场仅生长6.8%;二是竞争厂商添加,日本、我国台湾厂商为扩展市场据有率,在铜制程高阶产品引发降价。因而即寰球使用量较由2004年94,300吨生长至2005年111,280吨,生长率高达18%,然而金额仅生长3.4%。预估2006年寰球半导体市场生长8.0%,化学机械研磨液使用量生长3.6%,金额在高阶制程TaN Barrier Layer进入生长阶段,预计生长8.8%,2007、2008年连续生长趋势。      Cabot为寰球最主要供货商,产品系列齐全,尤其在钨金属制程产品市占率最高,位置也最为牢固;Fujimi与Rohm&Haas在氧化层制程产品上表示较好,普通日系半导体厂商多使用Fujimi的产品,美系及欧系厂商多使用Rohm&Haas产品,除了DRAM半导体氧化层制程,在硅晶圆资料抛光方面,也是Fujimi与Rohm&Haas的主要目的市场,JSR专一铜制程产品,台积电、Toshiba已少量在使用,TaN阻障层也以JSR、Rohm&Haas为主要供货商;我国台湾厂商长兴化工主力放在铜制程研磨液市场,近一两年也开端打入寰球市场。化学机械研磨液领域近年来参加者众,面对于日本厂商的腐蚀,产品价钱降低,厂商竞争越来越辛劳,日本厂商的竞争力没有容忽视,但目前仍以Cabot主宰CMP研磨液市场。 

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